有选择地从硅片表面,除去不需要材料的过程。
完成之后,就能通过特定溶剂,洗去硅片表面残余的光刻胶了。
当然,这是最简易的光刻步骤,在实际生产制造中,比这复杂了上百倍。
蔡晋从开始光刻,到最后洗去残余的光刻胶,几个步骤,就足足花了三个多小时。
当然,这里面也是有他刚刚接触光刻机,操作不顺手的因素。
看着这生产出来的300nm芯片,蔡晋脸上露出了笑容。
虽然是低端芯片,但是这是好的开始。
他的目标,又不是这些300nm芯片,切确地说,不是为了芯片。
而是光刻机。
通过不断使用光刻机,去升级光刻机,这才是他的目的。
解决了制造机器,那么用机器来生产,就完全不是问题了。