第82章 光刻机与光刻胶
第82章光刻机与光刻胶
【物品：低端光刻机】
【经验值：100000/100000（可升级）】
【优化点：250.8】
第二天，蔡晋睡醒之后，来到小工厂，查看光刻机的时候，数据已经发生了变化。
“系统，升级！”蔡晋毫不犹豫地选择了升级。
唰！
一道微光闪烁！
顿时，这台光刻机就发生了变化。
至少看起来,顺眼了很多。
相关的信息，蔡晋也就了解了。
【物品：中低端光刻机】
【经验值：0/500000】
【优化点：250.8】
这台光刻机，一下子从可以生产300nm，一下子提升到了150nm芯片水平。
不过，150nm芯片，依旧属于低端芯片，根本没有任何值得喜悦的。
蔡晋继续让光刻机运行着。
随后,他开始组装生产光刻胶的设备。
芯片发展有一个叫做摩尔定律的说法，每18~24个月，性能就会翻一倍。
而保持摩尔定律【生命力】的基石之一就是光刻技术，每18~24个月，利用光刻工艺在集成电路板上所能形成最小图案的特征尺寸将缩小30%。
光刻胶，正是光刻工艺的核心材料，它可以与光线发生反应，让芯片材料上出现所需的精密电路图案。
光刻胶的质量和性能，会直接影响到集成电路制造过程中的优良率。
一句话概括就是，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。
而中国在半导体光刻胶方面，简直是惨不忍睹,国产市场占有率仅仅1%！
中国每年光刻胶的产量，已经达到了惊人的七万吨。
但这些产量只不过是一些初级产品罢了。
至于中高端光刻胶,没有一家企业是是属于中国的。
是的，现实就是这么残酷！
统治这个行业的，是美国陶氏化学,杜邦，亨斯迈，霓虹jsr，信越，东京应化学，富士，住友，tok，三菱化学，旭化成，日立化成，新日铁化学，太阳油墨，再加上韩国东进化学，lg化学，意大利莫顿等等。
最鲜明的例子，就是韩国。
自从2019年双方产生巨大矛盾，日本经济省宣布将对出口韩国的半导体材料加强审查与管控，其中包括氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯度氟化氢，这一招直接干趴下韩国的半导体产业,只能乖乖认怂。
所以虽然光刻胶全球市场也就不到百亿美元，但是蔡晋却要解决它。
解决了光刻机和光刻胶，那么中国半导体也就基本上解决了面临的困境。
至于剩下的问题,也就无足轻重了。
而且蔡晋已经决定了，直接把光刻机和光刻胶做成白菜价，搞死那些王八蛋。
要知道一直以来，想要购买顶尖光刻机，人家都是施舍姿势！
想想蔡