第四十七章 蒲伟才
1月15日,星期六biqu31。cc
合痩市biqu31。cc
乘坐高铁的卫明,来到了这座城市biqu31。cc
为此他特意跟樊姐请了两天假,提前处理了三十多名结石病人,合计腾出三天时间,就为了解决掉一个问题biqu31。cc
人才!
高端光刻机的研发人才biqu31。cc
而且卫明已经有了明确的招募目标,他认为的最合适最优秀的人才,就在合瘦市这边biqu31。cc
此人名叫蒲伟才biqu31。cc
卫明是在网上查找相关信息的过程中,看到了多条关于此人的新闻biqu31。cc
也注意到此人带领的研发团队,取得的跟光刻机相关的多项研究成果,了解了此人的牛叉之处biqu31。cc
因为这些天卫明也在大力学习一些跟光刻机相关的知识,了解到了EUV光刻机的几大核心技术biqu31。cc
一个,组装biqu31。cc
光刻机最重要的技术之一是组装,就是把所有的元件组装起来,然后使分辨率达到最高,同时套刻精度达到最佳biqu31。cc
比如机器内部温度的变化要控制在千分之五度,得有合适的冷却方法,精准的测温传感器biqu31。cc一台光刻机中,包含十几个分系统,几万个机械件,数百个的传感器,每一个都要稳定biqu31。cc
二,控制biqu31。cc
光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品biqu31。cc光刻的原理就像在米粒大小的面积上,雕刻纳米级大小的文字,对于误差的要求可想而知biqu31。cc
比如光刻机里有2个同步运动的工件台,一个载底片,一个载胶片biqu31。cc两者需始终同步,误差在2纳米以下biqu31。cc两个工作台由静到动,加速度跟导弹发射差不多biqu31。cc
三,光源biqu31。cc
制造EUV需要极高的能量biqu31。ccEUV能被空气吸收,所以光刻环节必须耗电保持真空环境biqu31。cc更夸张的是,EUV还能被透镜吸收,所以只能用十几次面透镜,通过不断反射将光源集中biqu31。cc
每反射1次,EUV的能量就会损失3成biqu31。cc十几次反射后,到达晶圆的光线理论上只剩下2%biqu31。cc从能连赶上看,寒国某半导体企业曾经说过,极紫外光EUV的能源转换效率只有%左右biqu31。cc
四、镜头biqu31。cc
光刻机的中心镜头对于镜头要求较高,位于光刻机中心的镜头,由20多块锅底大的镜片串联组成,需要高纯度