芯片制造,众所周知需要高精度的光刻机,但是对于晶圆制造需要的设备,却知之甚少
比如为半导体材料进行氧化处理的氧化炉,把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高粒子密度和高能量电离,把靶原子或疯子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜的PVD设备
这些设备都……其实有国产厂商17sba◇ccchaptererror;
点击读下一页,继续阅读 女术士之友 作品《科技:打破垄断全球的霸权》第一百零三章:晶圆制造设备
芯片制造,众所周知需要高精度的光刻机,但是对于晶圆制造需要的设备,却知之甚少
比如为半导体材料进行氧化处理的氧化炉,把二次电子束缚在靶表面特定区域,实现高粒子密度和高能量电离,把靶原子或疯子高速率溅射沉积在基片上形成薄膜的PVD设备
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