些专家和教授们会继续发问，抢先一步开口道：“离子注入主要的作用是形成电阻，在芯片上起到导线和加热器的作用。”
“这种技术，是我通过在传统扩散技术的基础进一步发散后想到的，没有经过实验检验，不一定准确。”
“这里大胆提出，只是想趁着这个机会给各位专家教授提供一個思路。”
在场的专家和教授们心底不由冒出的一个念头：“是够大胆！”
但紧接着，他们又猛地发现：“不对劲啊，怎么说得好像很道理！”
而且李暮的理论，几乎等于给他们搭建了一个相当明晰的集成电路工艺流程框架！
要知道像集成电路这种高精尖的前沿技术，国外都是严防死守，生怕被国内学去。
他们想要研究，只能从国外的期刊杂志上找到一些只鳞片甲的内容，再以此做基础展开实验。
整个过程，就是一步步试错，摸着石头过河。
“你再给我们说说这个离子注入工艺，你是怎么想的？”几个教授目光灼灼地看向李暮。
李暮这会儿已经快把资料看完了，闻言迅速定位要说的内容，整理一番后道：“离子束把固体材料的原子或分子撞出固体材料，叫做溅射；从固体材料表
面弹回，叫做散射；而在固体材料中停留下来，就叫离子注入。”
“它的主要作用，就是对半导体材料进行掺杂，改变导电性能、光学性质和晶格结构。”
他一边说，一边在小黑板上画图，方便下面的人理解。
等他说完，在场的专家教授们不由陷入一阵长久的沉默。
直到不知谁“啪啪”地带头鼓起掌，雷鸣般的掌声霎时响彻会场，经久不息。
这下李暮算是彻底在国内半导体界出了名。
研讨会一直到下午才结束。
集成电路的四项关键工艺理论，成为全场唯一的焦点。
以至于研讨会接下来的内容，俱是以他提出的四项工艺为主。
几乎所有专家和教授兴致勃勃地讨论着这套理论的可行性。
而作为提出者，少不了有人跑来找李暮询问。
一个来自辽省的专家看着李暮，目光满是欣赏，道：“少年有为啊，我在伱这个年纪时，连课本知识都没学明白，没想到你已经能举一反三，设计出最前沿的框架。”
“您过奖了。”李暮微微汗
点击读下一页,继续阅读 笔落烽火 作品《火红年代，开局大学演讲》第76章 杰出的后起之秀（求追读）