的第一件事，就是和徐教授一起赶来公司跟李皓汇报，这段时间的谈判进展。
日本走的技术路线和asml公司不同，或许是因为从中国偷走了太多文化的缘故，让它也继承到了一些大国本帮的理念。
讲究的是能在本国解决的技术，就不要依赖于国外公司。
所以不管是佳能还是尼康生产的光刻机，大多的部件都是本国公司生产，而且各专业领域还都算是比较领先的。
这次叶顺亲自带队，就对光源、光刻胶、掩光罩、半导体生产用特殊气体、电子级硅晶圆等诸多领域，只要是在这次金融危机中，受到波及的公司进行了约谈。
其中就包括jsr、sum、凸版印刷、airater、栗田工业、小松研究所，并取得了一定的成绩。
反正徐教授对此是非常兴奋的，一直都在跟李皓解释，现在他们生产的光刻机主要就是卡在了光源上。
如果能顺利拿下小松研究所的技术，那么他们就可以保证，在明年年底前，生产出193纳米的光刻机，将极限工艺递进到90nm，晶圆尺寸升级到12英寸。
这已经基本达到了国际的先进水平，毕竟虽然asml公司早
在1989年，就已经生产出第一台193纳米的光刻机。
可之后也只是在极限工艺上做到了进步，在前几年将极限工艺做到了65nm。
毕竟在真实历史上，光刻机产业在产业在193nm波长上卡了将近20年！
如何将工艺跨入到40nm工艺，成为了阻挡在所有半导体厂商门口的拦路虎。
直到2002年，浸入式光刻技术的出现，将原先镜头与光刻胶之间的介质从空气换成了液体，从而利用光通过液体介质后光源波长缩短达成了提高分辨率的要求。
至于真正量产，那就还要靠后，一直到2007年蔡司公司推出的starlith1900i，成为了第一款达到38纳米极限分辨率的浸没式光学器件，asml公司继而才生产出跨越式的光刻机来。
而且这项技术最大的好处就是，其利用的还是原来的193nm干式光刻技术平台，只不过是单纯的介质改变，其他的技术应用并没有太多改动，所以比起一项崭新的技术，更能让客户接受。
因为李皓的提前指点，徐教授带领的技术团队，早在去年就已经开始进行这方面的研究。
李皓就是要利用这停滞