第620章 新的全球业务负责人
面对苏远山带着期许的眼神，林本坚有点不好意思起来niyosヽcc
回国之后，他便和之前一直远程联络的赵凯东团队一头扎进了193nmArF光源的研发中niyosヽcc现在正是小有成就，看到曙光的时候……
坦白说，他还真没空去考虑193nm之后的事niyosヽcc而且长期呆在硅谷，他对灯塔国的技术实力和技术远见是再了解不过了niyosヽcc
既然灯塔国那边都已经瞄准了EUV，显然，这意味着必定是个方向，起码也是之一niyosヽcc
不过……既然苏远山问的是“妙招”，而不是下一代光源的方向……
那林本坚倒还真有点想法niyosヽcc
“妙招谈不上，只是在很早之前有点不成熟的想法niyosヽcc”林本坚有些腼腆地笑道niyosヽcc
苏远山眼睛亮了起来：“林叔您说niyosヽcc”
“我在几年前发过一篇论文，当时就想过，如果无法从光源上缩短波长，那么可以考虑其他物理手段来实现niyosヽcc譬如在镜头与曝光区域中间加上一层水，这样就能把波长降下来了niyosヽcc”
说着林本坚便简单介绍了一下自己的思路niyosヽcc
听完林本坚的介绍，这边苏远山还没说什么，赵凯东和梁梦松便齐齐一楞——他俩人都是和光刻机老打交道的工程师，立刻便意识到这想法有点过于异想天开了niyosヽcc
赵凯东道：“老林，你这个怕是不好搞吧？”
梁梦松也点头：“有点过于……咳niyosヽcc”
林本坚只是笑了笑，他现在也没空去整理方案，只是随便一说，自然不指望说服这两人，而且这也不是什么迫在眉睫的事情……
于是，他们三人都没有见到，苏远山眼中升起的笑意niyosヽcc
“嗯，总算有个想法，什么时候我找看您那篇paper看看niyosヽcc”苏远山笑着点头：“现在我们主要还是得解决193nm的问题niyosヽcc”
“现目前，实现了ArF激光光源的主要有两家，一个是Cymer，一个是小松niyosヽcc我们和斯塔尔，IBM之流只能说在后面追赶……但我相信，追到最后，还能咬着光刻机光源的应该就只有我们一家niyosヽcc”
//注：小松株式会社，00年与USHIO联合成立Gigaphoton，加上Cymer，自此进入Arf光源双雄时代niyosヽcc当然，Cymer获得ASML的支持在EUV光源上拉开距离，又是另外一个故事了niyosヽcc
苏远山的话，自然得到了所有人的认